CONTINUOUS WAVE METAL DETECTOR
A training set including a target object set and a clutter object set is accessed. It is determined that the training set includes multiple types of targets or multiple types of clutter. The target feature value of a type of target is compared with the clutter feature value. The type of target is as...
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Format | Patent |
Language | English French |
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24.03.2011
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Summary: | A training set including a target object set and a clutter object set is accessed. It is determined that the training set includes multiple types of targets or multiple types of clutter. The target feature value of a type of target is compared with the clutter feature value. The type of target is associated with the non-target object based on the comparison. A classifier is trained using the target feature value and the clutter feature value of the associated type of target and the non-clutter object. A feature value associated with an unknown object is applied to multiple classifiers to generate a set of metrics for the unknown object. The metrics are aggregated into an overall metric. Whether the unknown object is included in the target set is determined based on the overall metric.
L'invention porte sur un ensemble d'entraînement, qui comprend un ensemble d'objet cible et un ensemble d'objet parasite. Il est déterminé que l'ensemble d'entraînement comprend de multiples types de cibles ou de multiples types de parasites. La valeur d'élément cible d'un type de cible est comparée à la valeur d'élément parasite. Le type de cible est associé à l'objet non cible en fonction de la comparaison. Un dispositif de classification est entraîné à l'aide de la valeur d'élément cible et de la valeur d'élément parasite du type associé de cible et de l'objet non parasite. Une valeur d'élément associée à un objet inconnu est appliquée à de multiples dispositifs de classification afin de générer un ensemble de métriques pour l'objet inconnu. Les métriques sont agrégées en une métrique globale. Il est déterminé si l'objet inconnu est ou non inclus dans l'ensemble cible en fonction de la métrique globale. |
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Bibliography: | Application Number: WO2010US49131 |