SEALING AGENT FOR LIQUID CRYSTAL DRIPPING METHOD

Disclosed is a sealing agent for a liquid crystal dripping method. The sealing agent has as a key feature a two step curing having heat curing as well as light curing using visible light wherein light having a wavelength of 400 nm or lower is blocked. The sealing agent has a high adhesive strength t...

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Main Authors FUKUNAGA, HIROYA, ITANO, KAZUYUKI, SHINANO, HIROKATSU
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 20.01.2011
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Summary:Disclosed is a sealing agent for a liquid crystal dripping method. The sealing agent has as a key feature a two step curing having heat curing as well as light curing using visible light wherein light having a wavelength of 400 nm or lower is blocked. The sealing agent has a high adhesive strength to a substrate, and low staining of liquid-crystal compositions that results from a photo-radical initiator at the time of contact with the liquid-crystal composition. Specifically, disclosed is a sealing agent for a liquid crystal dripping method, the sealing agent containing (1) a titanocene photo-radical initiator, (2) a photocurable resin, and (3) a latent epoxy curing agent, and as needed as a thermocurable resin, (4) a monomer having at least two glycidyl ether radicals within the molecule. L'invention porte sur un agent d'étanchéité pour un procédé d'égouttement de cristaux liquides. L'agent d'étanchéité a comme caractéristique clé un durcissement en deux étapes ayant un durcissement par la chaleur ainsi qu'un durcissement par la lumière utilisant une lumière visible dans laquelle la lumière ayant une longueur d'onde de 400 nm ou moins est bloquée. L'agent d'étanchéité a une force d'adhésion élevée sur un substrat, et une coloration faible de compositions de cristaux liquides qui résulte d'un initiateur de photopolymérisation radicalaire au moment du contact avec la composition de cristaux liquides. De manière spécifique, l'invention porte sur un agent d'étanchéité pour un procédé d'égouttement de cristaux liquides, l'agent d'étanchéité contenant (1) un initiateur de photopolymérisation radicalaire de titanocène, (2) une résine photodurcissable, et (3) un agent de durcissement époxy latent et, nécessaire en tant que résine thermodurcissable, (4) un monomère ayant au moins deux radicaux éther de glycidyle à l'intérieur de la molécule.
Bibliography:Application Number: WO2010JP60729