CHARGED PARTICLE BEAM MICROSCOPE AND MEASURING METHOD USING SAME

A charged particle beam device is equipped with a function of: obtaining an approximation function of a sample drift from a visual field shift amount among a plurality of images (S1); capturing a save image while correcting the drift on the basis of the approximation function (S2); and creating from...

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Main Authors YOTSUJI, TAKAFUMI, TSUNETA, RURIKO, KIKUCHI, HIDEKI
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 20.01.2011
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Summary:A charged particle beam device is equipped with a function of: obtaining an approximation function of a sample drift from a visual field shift amount among a plurality of images (S1); capturing a save image while correcting the drift on the basis of the approximation function (S2); and creating from the save image a target image in which the effect of the sample drift is reduced (S3). This makes it possible to smooth the random errors in the visual field shift measurements by approximating the sample drift to the function and also to predict the sample drift changing over time. Therefore, it is possible to provide a charged particle beam device in which the effect of the sample drift is very limited even in a high magnification and also provide a measuring method using the charged particle beam device. L'invention porte sur un dispositif à faisceau de particules chargées équipé d'une fonction consistant à : obtenir une fonction d'approximation d'une dérive d'échantillon à partir d'une quantité de décalage de champ visuel parmi une pluralité d'images (S1) ; capturer une image de sauvegarde tout en corrigeant la dérive sur la base de la fonction d'approximation (S2) ; et créer à partir de l'image de sauvegarde une image cible dans laquelle l'effet de la dérive d'échantillon est réduit (S3). Cela permet de lisser les erreurs aléatoires dans les mesures de décalage de champ visuel par approximation de la dérive d'échantillon par la fonction et également de prédire la variation au cours du temps de la dérive d'échantillon. En conséquence, il est possible de produire un dispositif à faisceau de particules chargées dans lequel l'effet de la dérive d'échantillon est très limité même à fort grossissement et également de fournir un procédé de mesure utilisant le dispositif à faisceau de particules chargées.
Bibliography:Application Number: WO2010JP03654