OPTICAL FILM THICKNESS METER AND THIN FILM FORMING APPARATUS PROVIDED WITH OPTICAL FILM THICKNESS METER

• Main Authors: JIANG, YOUSONG, OTAKI, YOSHIYUKI, SAI, KYOKUYO, HINATA, YOHEI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 06.01.2011
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; METALLURGY; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TESTING

Disclosed is an optical film thickness meter which can measure optical film thicknesses and spectroscopic characteristics with a high accuracy. A thin film forming apparatus provided with the optical film thickness meter is also disclosed. The optical film thickness meter is composed of a projector (11), a reflection mirror (17), a light receiver (19), and a spectroscope (20). The reflection mirror (17), which has the reflecting surface thereof disposed substantially perpendicular to the optical axis of measuring light, is provided on the side of an actual substrate (S), said side being the reverse side of the actual substrate side having the measuring light applied thereto. Furthermore, the actual substrate (S) is disposed at a predetermined tilt angle (a) with respect to the optical axis of the measuring light. The measuring light (outgoing light and reflecting light) passes through the actual substrate (S) twice, and the change quantity of the transmissivity (light quantity) is increased, and the control accuracy of film thickness measurement is improved. Furthermore, since generation of measurement errors due to different light transmitting positions can be eliminated and the measuring light that has not passed through the substrate twice via a predetermined path is prevented from being detected on the side of the light receiver (19), the optical film thicknesses and the spectroscopic characteristics can be measured with a high accuracy. L'invention porte sur un appareil de mesure d'épaisseur de film optique, qui peut mesurer les épaisseurs et les caractéristiques spectroscopiques de films optiques avec une grande précision. Elle porte aussi sur un appareil de formation de film mince, comportant l'appareil de mesure d'épaisseur de film optique. L'appareil de mesure d'épaisseur de film optique est composé d'un projecteur (11), d'un miroir réfléchissant (17), d'un récepteur de lumière (19) et d'un spectroscope (20). Le miroir réfléchissant (17), dont la surface réfléchissante est disposée d'une manière sensiblement perpendiculaire à l'axe optique de la lumière de mesure, est disposé sur le côté d'un substrat effectif (S), ledit côté étant le côté opposé au côté du substrat effectif auquel est appliquée la lumière de mesure. En outre, le substrat effectif (S) est disposé selon un angle d'inclinaison prédéterminé (a) par rapport à l'axe optique de la lumière de mesure. La lumière de mesure (lumière sortante et lumière réfléchie) traverse le substrat effectif (S) à deux reprises, et on a une augmentation du changement de transmissivité (quantité de lumière), ce qui améliore la précision de réglage de la mesure d'épaisseur de film. En outre, comme il est possible d'éliminer la production d'erreurs de mesure dues à des positions différentes de transmission de la lumière, et comme la lumière de mesure qui n'a pas traversé le substrat deux fois sur un chemin prédéterminé ne peut pas être détectée sur le côté du récepteur de lumière (19), on peut mesurer avec une grande précision les épaisseurs et les caractéristiques spectroscopiques de films optiques.