CHEMICAL ANALYSIS DEVICE

• Main Authors: SEINO, TAISAKU, OKUSA, TAKENORI, TAKAHASHI, KENICHI, YAMAKAWA, HIRONOBU, ARUGA, YOICHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.09.2010
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; PHYSICS; TESTING; TRANSPORTING

Disclosed is a chemical analysis device which is highly reliable through testing the state of expelled air, where an automatic chemical analysis device reaction vessel agitates a reaction liquid by expelling air from air expelling outlets provided above the vessel towards the reaction liquid, the target of agitation, contained within the vessel. Furthermore, in the reaction vessel, it is possible to thoroughly clean a reaction area without causing damage such as detaching coated reagents, etc. A reaction vessel placement platform (reaction disk) (161) is provided with a pore (240) and a pressure detection means (241) connected to said pore. By moving the expelling outlets (nozzles) (170) before and after agitation while air is being expelled and comparing the values detected by the pressure detection means with the initially determined normal value, it is possible to ensure that the agitation mechanism is working normally. Furthermore, the reaction area (1150) on the bottom surface of a reaction vessel (1140) is cleaned by continuous discharge and aspiration of a cleaning fluid while a discharge tube (1101) and an aspiration tube (1102) are inserted into the reaction vessel (1140) near the side walls at both ends of the vessel opening. L'invention concerne un dispositif d'analyse chimique très fiable grâce au test de l'état de l'air projeté, le dispositif automatique d'analyse chimique comprenant un récipient réactionnel contenant un liquide réactionnel agité par de l'air expulsé à partir d'orifices d'expulsion d'air disposés au-dessus du récipient. En outre, il est possible de nettoyer parfaitement une zone réactionnelle sans provoquer d'endommagement, comme le détachement d'une couche de réactifs, etc. Une plate-forme de placement de récipient réactionnel (disque réactionnel) (161) est pourvue d'un pore (240) et un moyen de détection de pression (241) est connecté audit pore. Grâce au déplacement des orifices d'expulsion (buses) (170) avant et après l'agitation tandis que de l'air est expulsé, et grâce à la comparaison entre les valeurs détectées par le moyen de détection de pression et la valeur normale déterminée initialement, il est possible de s'assurer que le mécanisme d'agitation fonctionne normalement. En outre, la zone réactionnelle (1150) se trouvant sur la surface inférieure d'un récipient réactionnel (1140) est nettoyée par la libération et l'aspiration continues d'un fluide de nettoyage tandis qu'un tube de libération (1101) et un tube d'aspiration (1102) sont insérés dans le récipient réactionnel (1140) à proximité des parois latérales aux deux extrémités de l'ouverture du récipient.