IMPROVED ELECTRICALLY TUNABLE FABRY-PEROT INTERFEROMETER, AN INTERMEDIATE PRODUCT AN ELECTRODE ARRANGEMENT AND A METHOD FOR PRODUCING AN ELECTRICALLY TUNABLE FABRY-PEROT INTERFEROMETER

• Main Authors: KATTELUS, HANNU, BLOMBERG, MARTTI, PUURUNEN, RIIKKA
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 05.08.2010
• Subjects: COLORIMETRY; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; MEASURING; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; RADIATION PYROMETRY; TESTING

The invention relates to electrically tunable Fabry-Perot interferometers which are produced with micromechanical (MEMS) technology. Producing interferometers with prior art processes includes costly and complicated production phases. Therefore, it has not been possible to apply interferometers in consumer mass products. According to the solution according to the invention the Fabry-Perot cavity is made by removing a sacrificial layer (112) which has been polymer material. A mirror layer (113, 117-120) which is produced above the sacrificial layer can be made with atomic layer deposition technology, for example. According to a preferable embodiment, electrodes (106b, 115b) of the mirror structures are formed by using sputtering or evaporation. With the inventive solution it is possible to avoid the above mentioned problems related with prior art. L'invention concerne des interféromètres de Fabry-Pérot électriquement accordables qui sont fabriqués par une technologie micromécanique (MEMS). La fabrication d'interféromètres avec des procédés de l'état de la technique comprend des phases de fabrication coûteuses et compliquées. Par conséquent, il n'a pas été possible d'appliquer les interféromètres dans les produits de consommation de masse. Selon la solution apportée par l'invention, la cavité de Fabry-Pérot est obtenue par l'élimination d'une couche sacrificielle (112) qui était faite de matériau polymère. Une couche miroir (113, 117-120), qui est fabriquée au-dessus de la couche sacrificielle, peut être obtenue par exemple avec une technologie de dépôt de couche atomique. Selon un mode de réalisation préférable, des électrodes (106b, 115b) des structures miroirs sont formées par pulvérisation cathodique ou par évaporation. Avec la solution apportée par l'invention, il est possible d'éviter les problèmes susmentionnés qui sont associés à l'état de la technique.