METHODS AND SYSTEMS FOR PARAMETER-SENSITIVE AND ORTHOGONAL GAUGE DESIGN FOR LITHOGRAPHY CALIBRATION

• Main Authors: SHAO, WENJIN, YE, JUN, CAO, YU, FENG, HANYING
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 14.05.2010
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Methods according to the present invention provide computationally efficient techniques for designing gauge patterns for calibrating a model for use in a simulation process, and which minimize degeneracy between model parameters, and thus maximize pattern coverage for parameter calibration.. More specifically, the present invention relates to methods of designing gauge patterns that achieve complete coverage of parameter variations with minimum number of gauges and corresponding measurements in the calibration of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. According to some aspects, a method according to the invention includes transforming the space of model parametric space (based on CD sensitivity or Delta TCCs), then iteratively identifying the direction that is most orthogonal to existing gauges' CD sensitivities in this new space, and determining most sensitive line width/pitch combination with optimal assist feature placement which leads to most sensitive CD changes along that direction in model parametric space. La présente invention concerne des procédés qui mettent en oeuvre des techniques d'un bon rendement de calcul pour la conception de motifs de calibre en vue de calibrer un modèle destiné à être utilisé dans un processus de simulation, et qui minimisent la dégénérescence entre les paramètres du modèle, maximisant de ce fait la couverture du motif pour le calibrage des paramètres. Plus précisément, la présente invention concerne des procédés de conception de motifs de calibre qui réalisent une couverture complète des variations des paramètres avec un nombre minimal de calibres et de mesures correspondantes lors du calibrage d'un processus lithographique utilisé pour former une image d'un dessin cible comportant une pluralité de détails. Selon certains aspects, un procédé selon l'invention comporte les étapes consistant à transformer l'espace paramétrique du modèle (sur la base de la sensibilité CD ou des Delta TCC), puis à identifier de manière itérative la direction la plus orthogonale à des sensibilités CD des calibres existants dans ce nouvel espace et à déterminer la combinaison largeur / pas des lignes la plus sensible avec un positionnement optimal des détails d'assistance, qui donne les changements les plus sensibles de CD suivant la direction en question dans l'espace paramétrique du modèle.