CONFIGURATIONS AND METHODS OF GAS-ASSISTED SPRAY NOZZLES
Contemplated configurations and methods are drawn to systems in which gas assisted spray nozzles are used to distribute a liquid phase in micron-sized droplets in a device effluent at a position upstream of a second device having multiple parallel flow paths for the effluent. Most preferably, the as...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
08.04.2010
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Summary: | Contemplated configurations and methods are drawn to systems in which gas assisted spray nozzles are used to distribute a liquid phase in micron-sized droplets in a device effluent at a position upstream of a second device having multiple parallel flow paths for the effluent. Most preferably, the assist gas is a high-pressure gas phase that is generated in a process upstream of the device effluent, the first device is a hydrotreating or hydrocracking reactor or distillation column, and the second device is an air cooler or heat exchanger.
La présente invention concerne des configurations et des procédés de systèmes dans lesquels des buses de pulvérisation assistée au gaz sont utilisées pour distribuer une phase liquide en gouttelettes de la taille du micron dans un effluent de dispositif dans une position située en amont d'un second dispositif ayant de multiples voies d'écoulement parallèles pour l'effluent. Idéalement, le gaz d'assistance est une phase gazeuse haute pression qui est générée lors d'un processus en amont de l'effluent de dispositif, le premier dispositif est un réacteur d'hydrotraitement ou d'hydrocraquage ou une colonne de distillation, et le second dispositif est un refroidisseur d'air ou un échangeur de chaleur. |
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Bibliography: | Application Number: WO2009US58935 |