CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

The astigmatic control processing time is reduced to one second or less by improving the accuracy of measurement of an astigmatic difference. A charged particle beam device comprises a stage for mounting a sample thereon, a carrying mechanism for carrying the sample onto the stage, a charged particl...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors YAMANASHI, HIROMASA, FUKUDA, MUNEYUKI, SOHDA, YASUNARI
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 01.04.2010
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:The astigmatic control processing time is reduced to one second or less by improving the accuracy of measurement of an astigmatic difference. A charged particle beam device comprises a stage for mounting a sample thereon, a carrying mechanism for carrying the sample onto the stage, a charged particle beam optical system for applying a charged particle beam to the sample on the stage and detecting secondary charged particles generated from the sample, and a control unit for setting the setting parameter of the charged particle beam optical system and controlling the charged particle beam optical system.  The control unit registers and holds electronic optical system setting in which tilted beams tilted from a normal line on the sample are applied as the charged particle beams, measures the amount and direction of movement by comparing observational images obtained by the tilted beams, and calculates the astigmatism correction amount from the amount and direction of movement. Selon l'invention, le temps de traitement de commande astigmatique est réduit jusqu'à atteindre une seconde ou moins en améliorant la précision de mesure d'une différence astigmatique. L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées comprenant un étage destiné au montage d'un échantillon sur celui-ci, un mécanisme de transport servant à porter l'échantillon sur ledit étage, un système optique à faisceau de particules chargées servant à appliquer un faisceau de particules chargées sur l'échantillon se trouvant sur l'étage et à détecter les particules chargées secondaires générées par l'échantillon, et une unité de commande servant à établir le paramètre de réglage du système optique à particules chargées, ainsi qu'à commander le système optique à particules chargées. L'unité de commande enregistre et retient le réglage du système optique à faisceau de particules chargées selon lequel des faisceaux inclinés présentant une inclinaison par rapport à une ligne normale sur l'échantillon sont appliqués comme faisceaux de particules chargées, mesure la quantité et la direction du mouvement en comparant les images d'observation obtenues au moyen desdits faisceaux inclinés, et calcule la quantité de correction d'astigmatisme à partir desdites quantité et direction de mouvement.
Bibliography:Application Number: WO2009JP04506