ATOMICALLY PRECISE NANORIBBONS AND RELATED METHODS
Disclosed are atomically precise nanoribbons formed by gradient-driven catalytic etching of crystalline substrates to produce edges formed along specific crystallographic axes by thermally-activated particles. Also provided are related methods for fabrication of these nanoribbon structures. Further...
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Format | Patent |
Language | English French |
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10.12.2009
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Summary: | Disclosed are atomically precise nanoribbons formed by gradient-driven catalytic etching of crystalline substrates to produce edges formed along specific crystallographic axes by thermally-activated particles. Also provided are related methods for fabrication of these nanoribbon structures. Further provided are devices and related methods for power generation and for detection of specific targets using the disclosed structures.
L'invention porte sur des nanorubans de précision atomique formés par une gravure catalytique entraînée par gradient de substrats cristallins pour produire des bordures formées le long d'axes cristallographiques spécifiques par des particules thermiquement activées. L'invention porte également sur des procédés apparentés pour la fabrication de ces structures de nanorubans. L'invention porte également sur des dispositifs et des procédés apparentés pour la génération de courant et pour la détection de cibles spécifiques à l'aide des structures décrites. |
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Bibliography: | Application Number: WO2009US45824 |