MULTILAYER MIRROR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Authors: SALASCHENKO, NIKOLAI NIKOLAEVICH, MOORS, JOHANNES, HUBERTUS, JOSEPHINA, SJMAENOK, LEONID, AIZIKOVITCH, BANINE, VADIM, GLUSHKOV, DENIS
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 01.07.2010
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES; HOLOGRAPHY; IRRADIATION DEVICES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES; MATERIALS THEREFOR; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; NUCLEAR ENGINEERING; NUCLEAR PHYSICS; ORIGINALS THEREFOR; PERFORMING OPERATIONS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR; TRANSPORTING

A multilayer mirror is constructed and arranged to reflect radiation having a wavelength in the range of 2-8 nm. The multilayer mirror has alternating layers selected from the group consisting of: Cr and Sc layers, Cr and C layers, C and B4C layers, U and B4C layers, Th and B4C layers, C and B9C layers, La and B9C layers U and B9C layers, Th and B9C layers, La and B layers, C and B layers, U and B layers, and Th and B layers. L'invention concerne un miroir multicouche qui est construit et agencé pour réfléchir un rayonnement ayant une longueur d'onde située dans la plage de 2 à 8 nm. Le miroir multicouche comporte des couches alternées choisies parmi le groupe constitué de : couches de Cr et de Sc, des couches de Cr et de C, des couches de C et B4C, des couches de U et de B4C, des couches de Th et de B4C, des couches de C et de B9C, des couches de La et de B9C, des couches de U et de B9C, des couches de Th et de B9C, des couches de La et de B, des couches de C et de B, des couches de U et de B et des couches de Th et de B.