PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN FROM THE SAME

• Main Authors: HIRANO, SHUJI, KAMIMURA, SOU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.04.2009
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

A photosensitive composition for use in steps for producing semiconductor devices including ICs, in the production of circuit boards for liquid crystals, thermal heads, etc., and in other photofabrication steps, etc. It has been improved in four points, i.e., sensitivity, resolution, line edge roughness, and pattern falling. Also provided is a method of forming a pattern from the composition. The photosensitive composition comprises (A) a polymer which has repeating units of a specific acetal structure having a leaving group not having a cyclic structure therein and which decomposes by the action of an acid to come to have enhanced solubility in an alkaline developing solution, (B) a polymer which has repeating units of a specific acetal structure having a leaving group having a cyclic structure therein and which decomposes by the action of an acid to come to have enhanced solubility in an alkaline developing solution, and (C) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation. L'invention porte sur une composition photosensible destinée à être utilisée dans des étapes pour produire des dispositifs semi-conducteurs comprenant des CI, dans la fabrication de cartes de circuit pour cristaux liquides, de têtes thermiques, etc., et dans d'autres étapes de photo-fabrication, etc. Elle a été améliorée en quatre points, à savoir, la sensibilité, la résolution, la rugosité de bord de ligne et la chute de motif. L'invention porte également sur un procédé de formation d'un motif à partir de la composition. La composition photosensible comprend (A) un polymère qui a des unités répétitives d'une structure d'acétal spécifique ayant un groupe partant ne renfermant pas de structure cyclique et qui se décompose par l'action d'un acide pour venir à avoir une solubilité améliorée dans une solution de développement alcaline, (B) un polymère qui a des unités répétitives d'une structure d'acétal spécifique ayant un groupe partant renfermant une structure cyclique et qui se décompose par l'action d'un acide pour venir à avoir une solubilité améliorée dans une solution de développement alcaline, et (C) un composé qui génère un acide lors d'une irradiation par des rayons actiniques ou un rayonnement.