SCANNED WRITING OF AN EXPOSURE PATTERN ON A SUBSTRATE

• Main Authors: GIESEN, PETER, THEODORUS, MARIA, MEINDERS, ERWIN, RINALDO
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 22.01.2009
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INFORMATION STORAGE; INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORDCARRIER AND TRANSDUCER; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

An exposure pattern is written on a substrate, by scanning a light spot along a trajectory over the substrate and switching it on and off according to a desired pattern. Respective spot sizes of the light for illuminating the substrate in respective parts of the trajectory according to a geometry of the pattern. Respective pitch values between successive ones of the parts of the trajectory are selected, in relation to the spot size selected for the respective parts. The light spot is scanned over the substrate along the trajectory, with the selected pitch values between the trajectory parts and a position dependent spot size along the trajectory. In an embodiment a helical trajectory is used. Un motif d'exposition est écrit sur un substrat, par balayage d'un spot lumineux le long d'une trajectoire sur le substrat et allumage et extinction de celui-ci conformément à un motif désiré. Des dimensions de spot respectives de la lumière pour éclairer le substrat dans des parties respectives de la trajectoire conformément à une géométrie du motif sont proposées. Des valeurs de pas respectives entre les parties successives des parties de la trajectoire sont sélectionnées, conformément à la dimension de spot sélectionnée pour les parties respectives. Le spot lumineux est balayé sur le substrat le long de la trajectoire, avec des valeurs de pas sélectionnées entre les parties de trajectoire et une position fonction de la dimension de spot le long de la trajectoire. Dans un mode de réalisation, une trajectoire hélicoïdale est utilisée.