EXPOSURE METHOD AND APPARATUS AND SUBSTRATE HOLDING APPARATUS

• Main Author: ARAI, DAI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 26.06.2008
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER; ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; GENERATION; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

In an exposure apparatus, a movable section for driving a substrate is simplified or reduced in sizes, and exposure is performed by keeping plalnarity of the surface of the substrate high as needed. The exposure apparatus performs exposure to a wafer (W) with exposure light (IL) through a projection optical system (PL). The exposure apparatus is provided with a wafer pack (28), which has a glass substrate (29) arranged to face the wafer (W), and a mechanism for holding the wafer (W) by adhering the surface of the wafer (W) to the bottom surface of the glass substrate (29); an electrostatic bearing member (37), which is arranged at a lower section of the projection optical system (PL) and provided with an electrode member (75) for sucking and holding the glass substrate (29) with an electrostatic force; and an XY coil carrier (40) for magnetically driving the wafer pack (28) in the horizontal direction. Selon l'invention, dans un appareil d'exposition, une section mobile permettant d'attaquer un substrat est simplifiée ou de taille réduite et l'exposition est effectuée en maintenant élevée, comme nécessaire, la planéité de la surface du substrat. L'appareil d'exposition effectue une exposition sur une tranche (W) grâce à de la lumière d'exposition (IL) au travers d'un système optique de projection (PL). L'appareil d'exposition est muni d'un bloc (28) pour tranche qui comporte un substrat de verre (29) disposé pour faire face à la tranche (W) et d'un mécanisme pour maintenir la tranche (W) en collant la surface de la tranche (W) à la surface inférieure du substrat de verre (29), d'un élément de palier électrostatique (37) qui est disposé sur une section inférieure du système optique de projection (PL) et qui est muni d'une électrode (75) permettant d'aspirer et de maintenir le substrat de verre (29) avec une force électrostatique, ainsi que d'un support de bobine XY (40) permettant d'attaquer magnétiquement le bloc (28) pour tranche dans la direction horizontale.