LIQUID HOLDING APPARATUS, LIQUID HOLDING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: ARAI, DAI, ONO, KAZUYA
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 08.05.2008
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

A liquid is held in a prescribed region between a first body and a second body. A liquid holding apparatus has an electrostatic holding section for holding the liquid by an electrostatic force. When the liquid holding apparatus is applied in an immersion exposure apparatus, an immersion liquid can be held in a desired filling status even when exposure is performed while moving a substrate. Furthermore, the interface is permitted to be in a prescribed status by electrostatically charging the immersion liquid. Selon l'invention, un liquide est maintenu dans une zone prescrite entre un premier corps et un second corps. Un appareil de maintien de liquide comporte une section de maintien électrostatique permettant de maintenir le liquide grâce à une force électrostatique. Lorsque l'appareil de maintien de liquide est utilisé dans un appareil d'exposition par immersion, un liquide d'immersion peut être maintenu dans un état de remplissage souhaité même lorsque l'exposition est effectuée tout en déplaçant un substrat. En outre, l'interface peut se trouver dans un état prescrit en chargeant de manière électrostatique le liquide d'immersion.