TEMPERATURE CONTROLLED MULTI-GAS DISTRIBUTION ASSEMBLY

An apparatus and method for a gas distribution plate is provided. The gas distribution plate has a first manifold which includes a plurality of concentric channels for providing at least two distinct gases to a processing zone above a substrate. A portion of the plurality of channels perform a therm...

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Main Authors MYO, NYI OO, MATTINGER, GEORGE, POPPE, STEVEN
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 02.05.2008
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Summary:An apparatus and method for a gas distribution plate is provided. The gas distribution plate has a first manifold which includes a plurality of concentric channels for providing at least two distinct gases to a processing zone above a substrate. A portion of the plurality of channels perform a thermal control function and are separated from the remaining channels, which provide separated gas flow channels within the gas distribution plate. The gas flow channels are in fluid communication with a second manifold which includes a plurality of concentric rings. Apertures formed in the rings are in fluid communication with the gas flow channels and the processing zone. The gases are provided to the processing zone above the substrate, and do not mix within the gas distribution plate. La présente invention concerne un appareil et un procédé pour une plaque de distribution de gaz. La plaque de distribution de gaz est pourvue d'un premier manifold qui inclut une pluralité de voies concentriques destinées à fournir au moins deux gaz distincts à une zone de traitement au-dessus d'un substrat. Une partie de la pluralité de voies a une fonction de contrôle thermique et est séparée des voies restantes, ce qui permet d'obtenir des voies d'écoulement de gaz séparées à l'intérieur de la plaque de distribution de gaz. Les voies d'écoulement de gaz sont en communication fluidique avec un second manifold qui inclut une pluralité d'anneaux concentriques. Des ouvertures formées dans les anneaux sont en communication fluidique avec les voies d'écoulement de gaz et la zone de traitement. Les gaz sont amenés jusqu'à la zone de traitement au-dessus du substrat, et ne se mélangent pas à l'intérieur de la plaque de distribution de gaz.
Bibliography:Application Number: WO2007US80966