DUAL MAGNETRON SPUTTERING POWER SUPPLY AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS

• Main Authors: THOMASITA, RENE, SESINK, GEERT, TIETEMA, ROEL, PAPA, FRANK
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 02.05.2008
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

A dual magnetron sputtering power supply for use with a magnetron sputtering apparatus having at least first and second sputtering cathodes for operation in the dual magnetron sputtering mode, there being a means for supplying a flow of reactive gas to each of said first (1) and second (4) cathodes via first (12) and second (14) flow control valves each associated with a respective one of said first and second cathodes and each adapted to control a flow of reactive gas to the respectively associated cathode, the power supply having, for each of said first and second cathodes a means for deriving a feed-back signal relating to the voltage prevailing at that cathode, a control circuit for controlling the flow of reactive gas to the respectively associated cathode by controlling the respective flow control valve and adapted to adjust the respective flow control valve to obtain a voltage feedback signal from the respective cathode corresponding to a set point value set for that cathode. Also claimed is a magnetron sputtering apparatus in combination with such a power supply. L'invention concerne une alimentation de bombardement cathodique à double magnétron destinée à être utilisée avec un appareil de bombardement cathodique à magnétron, comportant au moins une première et une seconde cathode de bombardement cathodique, destinées à être mises en oevre dans le mode de bombardement cathodique à double magnétron, l'invention comportant un moyen permettant d'acheminer un flux de gaz réactif vers chacune desdites première (1) et seconde (4) cathodes via des première (12) et seconde (14) valves de commande de flux, chacune d'elles étant associée à l'une respective desdites première et seconde cathodes et chacune d'elles étant adaptée à commander un flux de gaz réactif acheminé vers la cathode respectivement associée, l'alimentation possédant, pour chacune desdites première et seconde cathodes, un moyen pour dériver un signal de rétroaction relatif à la tension appliquée sur cette cathode, un circuit de commande pour commander le flux de gaz réactif vers la cathode respectivement associée, en commandant la valve de commande de flux respective, et adapté pour ajuster la valve de commande de flux respective afin d'obtenir un signal de rétroaction de tension provenant de la cathode respective correspondant à une valeur de point de consigne fixée pour cette cathode. L'invention concerne également un appareil de bombardement cathodique à magnétron combiné à cette alimentation.