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Summary:Disclosed is a method for producing a long polishing pad, which is capable of preventing slurry leakage and excellent in optical detection accuracy, with high productivity. Specifically disclosed is a method for producing a long polishing pad, which comprises a step for forming a long polishing unit (9) made of a polyurethane foam, a step for forming an opening, which is composed of a through hole (12) and a shelf portion (13), in the long polishing unit (9), a step for forming a convex-shaped long light-transmitting unit (10) which is thinner than the long polishing unit (9), a step for arranging the long light-transmitting unit (10) in the opening of the long polishing unit, and a step for bonding a transparent supporting film (11) on the rear surface of the long polishing unit. L'invention concerne un procédé pour produire un long tampon à polir, qui est capable d'empêcher une fuite de bouillie et qui est excellent en termes de précision de détection optique, avec une productivité élevée. L'invention concerne en particulier un procédé pour produire un long tampon à polir, lequel procédé comprend une étape consistant à former une longue unité de polissage (9) faite à partir d'une mousse de polyuréthane, une étape consistant à former une ouverture, qui est composée d'un trou traversant (12) et d'une partie de plateau (13), dans la longue unité de polissage (9), une étape consistant à former une longue unité (10) de transmission de lumière, de forme convexe, plus mince que la longue unité de polissage (9), une étape consistant à disposer la longue unité (10) de transmission la lumière dans l'ouverture de la longue unité de polissage, et une étape consistant à lier un film de support transparent (11) sur la surface arrière de la longue unité de polissage.
Bibliography:Application Number: WO2007JP69685