FUSED QUARTZ GLASS AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

• Main Authors: HASIMOTO, SHINKICHI, YAMADA, NOBUSUKE, HARADA, YOSHINORI, UCHIDA, MASATO, HORIKOSHI, HIDEHARU, ARAI, KAZUYOSHI, TAKAHATA, TSUTOMU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 20.03.2008
• Subjects: CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS; CHEMISTRY; CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION ORPROCESSING OF GOODS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GLASS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS; MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES; METALLURGY; MINERAL OR SLAG WOOL; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS; TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINSTCLIMATE CHANGE

A fused quartz glass comprising OH in a content of 5 ppm or less and Li, Na, K, Mg, Ca and Cu each in a content of less than 0.1 ppm, exhibiting an internal transmittance, as measured at a thickness of 10 mm with respect to ultraviolet radiation of 245 nm wavelength, of 95% or greater. Preferably, the fused quartz glass exhibits a viscosity coefficient of 1011.5 Pa·s or greater at 1215°C, and exhibits a Cu ion diffusion coefficient, as measured in a region from over 20 µm up to 100 µm in a depth from the surface when left in atmosphere at 1050°C for 24 hours, of 1OE0-10 cm2/sec or below. This fused quartz glass is produced by converting a raw material silica powder to cristobalite and thereafter fusing the same in a nonreducing atmosphere. This fused quartz glass has the properties of being high in the transmittance of ultraviolet ray, visible light and infrared ray, being highly purified, having high heat resistance and being low in the diffusion velocity of metal impurities, so that it is suitable for use as various optical materials, members for semiconductor production, members for liquid crystal production, etc. La présente invention concerne un verre de quartz comprenant des OH en une teneur de 5 ppm ou moins et du Li, Na, K, Mg, Ca et Cu chacun en une teneur inférieure à 0,1 ppm, présentant une transmittance interne, telle que mesurée à une épaisseur de 10 mm par rapport au rayonnement ultraviolet de 245 nm de longueur d'onde, de 95 % ou plus. De préférence, le verre de quartz présente un coefficient de viscosité de 1011,5 Pa·s ou plus à 1 215°C, et un coefficient de diffusion des ions Cu, tel que mesuré dans une région allant d'au-dessus de 20 µm jusqu'à 100 µm à une profondeur par rapport à la surface une fois laissé dans l'atmosphère à 1 050°C pendant 24 heures, de 1OE0-10 cm2/sec ou moins. Ce verre de quartz est produit en convertissant une poudre de silice comme matériau brut en cristobalite, puis en faisant fondre celle-ci dans une atmosphère non réductrice. Ce verre de quartz présente une transmittance élevée du rayonnement ultraviolet, de la lumière visible et de rayonnement infrarouge, une purification élevée, une résistance thermique élevée et une vitesse de diffusion faible des impuretés métalliques, de sorte qu'il est approprié pour une utilisation en tant que divers matériaux optiques, éléments pour la production de semi-conducteurs, éléments pour la production de cristaux liquides, etc.