VACUUM EVAPORATION PROCESSING EQUIPMENT

• Main Authors: MUKAE, ICHIROU, ITOU, MASAMI, KATOU, TAKEO, NAKAMURA, KYUZO, NAKATSUKA, ATSUSHI, NAGATA, HIROSHI, YOSHIIZUMI, RYOU, SHINGAKI, YOSHINORI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 20.03.2008
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRICITY; INDUCTANCES; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MAGNETS; METALLURGY; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TRANSFORMERS

There is provided a vacuum evaporation processing equipment suitable for forming a metal evaporation atmosphere in a processing chamber, attaching a metal in the metal evaporation atmosphere to the surface of a processing object, and, in addition, performing a process for diffusing the metal atoms attached to the surface of the processing object into a crystal grain boundary of the processing object. The vacuum evaporation processing equipment comprises a processing furnace (11), at least one processing box (4) disposed in the processing furnace, and a heating means (2) provided inside the processing furnace so as to surround the periphery of the processing box. The vacuum evaporation processing equipment is also provided with a vacuum evacuation means which depressurizes the processing furnace and the processing box to a predetermined pressure and maintains it, after the processing box with a processing object (S) and a metal evaporation material (V) both disposed inside is housed into the processing furnace. While the heating means is operated under reduced pressure to raise the temperature of the processing object up to a predetermined temperature, the metal evaporation material is evaporated and the evaporated metal atoms are supplied to the surface of the processing object. L'invention concerne un matériel de traitement par évaporation sous vide qui convient pour former une atmosphère d'évaporation de métal dans une chambre de traitement, afin d'attacher un métal présent dans cette atmosphère d'évaporation de métal à la surface d'un objet de traitement et, par ailleurs, afin d'effectuer un traitement permettant de diffuser les atomes métalliques attachés à la surface de l'objet de traitement dans une limite de grains cristallins de cet objet de traitement. Ce matériel de traitement par évaporation sous vide comprend un four de traitement (11), au moins une boîte de traitement (4) située dans ce four de traitement, et un moyen de chauffage (2) situé à l'intérieur du four de traitement de façon à entourer la périphérie de la boîte de traitement. Le matériel de traitement par évaporation sous vide comprend aussi un moyen d'évacuation par le vide qui dépressurise le four de traitement et la boîte de traitement à une pression prédéterminée et la maintient, après que la boîte de traitement avec un objet de traitement (S) et un matériau d'évaporation de métal (V) placés tous les deux à l'intérieur ont été logés dans le four de traitement. Pendant que le moyen de chauffage fonctionne sous pression réduite pour élever la température de l'objet de traitemens jusqu'à une température prédéterminée, le matériau d'évaporation de métal est évaporé et les atomes métalliques évaporés sont alimentés sur la surface de l'objet de traitement.