ION EXCHANGE TREATMENT OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY

A CMP slurry (408) is treated by ion exchange (82) in a CMP slurry treatment apparatus (100) which can accept slurries containing particles of metals and other abrasion byproducts. The apparatus comprises an ion exchange column (82) comprising a tank which contains a resin bed of resin beads that ex...

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Main Authors ROBERTS, BENJAMIN R, SMITH, MICHAEL, PORSHNEV, PETER
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 02.10.2008
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Summary:A CMP slurry (408) is treated by ion exchange (82) in a CMP slurry treatment apparatus (100) which can accept slurries containing particles of metals and other abrasion byproducts. The apparatus comprises an ion exchange column (82) comprising a tank which contains a resin bed of resin beads that extract the hazardous materials, such as metals like copper, from the CMP slurry passed through the tank. Une boue de polissage mécanique et chimique est traitée par échange ionique dans un dispositif de traitement d'une boue de polissage mécanique et chimique qui peut accueillir des boues contenant des particules de métaux et d'autres sous-produits d'abrasion. Le dispositif comprend une colonne d'échange ionique incluant un réservoir qui contient un lit de résine constitué de billes de résine qui permettent d'extraire les matériaux dangereux, tels que les métaux comme le cuivre, de la boue de polissage mécanique et chimique qui passe au travers du réservoir.
Bibliography:Application Number: WO2007US72970