PLASMA REACTOR WITH A DYNAMICALLY ADJUSTABLE PLASMA SOURCE POWER APPLICATOR

• Main Authors: GRIMBERGEN, MICHAEL, N, PANAYIL, SHEEBA, J, BIVENS, DARIN, IBRAHIM, IBRAHIM, M, KUMAR, AJAY, KOCH, RENEE, LEWINGTON, RICHARD, CHANDRACHOOD, MADHAVI, R
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 03.04.2008
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A plasma reactor for processing a workpiece includes a process chamber having an enclosure including a ceiling and having a vertical axis of symmetry generally perpendicular to the ceiling, a workpiece support pedestal inside the chamber and generally facing the ceiling, process gas injection apparatus coupled to the chamber and a vacuum pump coupled to the chamber. The reactor further includes a plasma source power applicator overlying the ceiling and having a radially inner applicator portion and a radially outer applicator portion, and RF power apparatus coupled to the inner and outer applicator portions, and tilt apparatus supporting at least the outer applicator portion and capable of tilting at least the outer applicator portion about a radial axis perpendicular to the axis of symmetry and capable of rotating at least the outer applicator portion about the axis of symmetry. The reactor can further include elevation apparatus for changing the location of the inner and outer portions relative to one another along the vertical axis of symmetry. In a preferred embodiment, the elevation apparatus includes a lift actuator for raising and lowering the inner applicator portion along the vertical axis of symmetry. Cette invention concerne un réacteur à plasma servant au traitement d'une pièce et comportant une chambre de traitement comprenant une enceinte comportant un plafond et un axe de symétrie vertical sensiblement perpendiculaire au plafond, un socle support de pièce à l'intérieur de la chambre et orienté sensiblement face au plafond, un appareil d'injection de gaz de traitement couplé à la chambre et une pompe à vide couplée à la chambre. Le réacteur comprend également un applicateur de puissance de la source de plasma recouvrant le plafond et comportant une partie d'applicateur radialement interne et une partie d'applicateur radialement externe, ainsi qu'un appareil à puissance RF couplé aux parties d'applicateur interne et externe, et un appareil d'inclinaison sur lequel repose au moins la partie d'applicateur externe et pouvant incliner au moins la partie d'applicateur externe selon un axe radial perpendiculaire à l'axe de symétrie et pouvant faire tourner au moins la partie d'applicateur externe autour de l'axe de symétrie. Le réacteur peut également comprendre un appareil élévateur servant à modifier la position des parties interne et externe l'une par rapport à l'autre le long de l'axe de symétrie vertical. Dans un mode de réalisation préféré, l'appareil élévateur comprend un actionneur de levage servant à faire monter et descendre la partie d'applicateur interne le long de l'axe de symétrie vertical.