POLISHING PAD WITH MICROPOROUS REGIONS

• Main Author: PRASAD, ABANESHWAR
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 02.08.2007
• Subjects: DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; TOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING; TRANSPORTING

A polishing pad for chemical-mechanical polishing comprising a polymeric material comprising two or more adjacent regions which have the same polymer formulation and the transition between the regions does not include a structurally distinct boundary is provided. In a first embodiment, a first region and a second adjacent region have a first and second non-zero void volume, respectively, wherein the first void volume is less than the second void volume. In a second embodiment, a first non-porous region is adjacent to a second adjacent porous region, wherein the second region has an average pore size of 50 µm or less. In a third embodiment, at least two of an optically transmissive region, a first porous region, and an optional second porous region, are adjacent. Further provided are methods of polishing a substrate comprising the use of the polishing pads and a method of producing the polishing pads. L'invention concerne un tampon de polissage destiné au polissage chimique-mécanique, qui comprend une matière polymère dont deux ou davantage de régions adjacentes présentent la même formulation polymère, et la transition entre les régions ne comprend par de limite distincte d'un point de vue structural. Dans une première forme de réalisation, une première région et une seconde région adjacente comportent respectivement un premier et un second volume de vide non nuls, le premier volume de vide étant inférieur au second. Dans une deuxième forme de réalisation, une première région non poreuse est adjacente à une seconde région poreuse adjacente, la seconde région présentant une taille moyenne des pores égale ou inférieure à 50 ?m. Dans une troisième forme de réalisation, au moins deux régions choisies dans le groupe comprenant une région optiquement transparente, une première région poreuse et une seconde région poreuse facultative, sont adjacentes. L'invention concerne de plus des procédés de polissage d'un substrat qui comprennent l'utilisation de ces tampons de polissage, et un procédé de production desdits tampons.