IMMERSION TOPCOAT MATERIALS WITH IMPROVED PERFORMANCE

• Main Authors: BROCK, PHILLIP, JOE, WALLRAFF, GREGORY, MICHAEL, GIL, DARIO, HINSBERG, WILLIAM, DINAN, LARSON, CARL, ERIC, ALLEN, ROBERT, DAVID, SUNDBERG, LINDA, KARIN
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 22.11.2007
• Subjects: AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR,STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; PHOTOGRAPHY; PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHYSICS

A topcoat material for applying on top of a photoresist material is disclosed. The topcoat material comprises at least one solvent and a polymer which has a dissolution rate of at least 3000 A/second in aqueous alkaline developer. The polymer contains a hexafluoroalcohol monomer unit comprising one of the following two structures: (I) wherein n is an integer. The topcoat material may be used in lithography processes, wherein the topcoat material is applied on a photoresist layer. The topcoat material is 10 preferably insoluble in water, and is therefore particularly useful in immersion lithography techniques using water as the imaging medium. La présente invention concerne un bain de couche de finition en couverture de photorésine. Ce matériau comprend au moins un solvant et un polymère se dissolvant à au moins 3000 Å/seconde dans un bain de révélateur alcalin. Ce polymère contient une unité monomère d'hexafluoroalcool comprenant l'une des deux structures représentées par les formule (I, II). Dans ces formules, "n" est un entier. Ce bain de finition convient aux traitements lithographiques, le matériau de l'invention s'appliquant sur une couche de photorésine. Etant de préférence insoluble dans l'eau, ce matériau convient particulièrement aux techniques lithographiques en bain utilisant l'eau comme milieu d'imagerie.