SYNCHRONOUS RASTER SCANNING LITHOGRAPHIC SYSTEM

• Main Author: BEAULIEU, DAVID R
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 20.07.2006
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A multi-beam synchronous raster scanning lithography system includes a processor that generates electrical signals representing a desired exposure pattern at an output. A multi-beam source of exposing radiation generates a plurality of exposure beam. A beam modulator receives the electrical signals generated by the processor and modulates the plurality of exposing beams according to the desired exposure pattern. A beam deflector deflects the plurality of exposure beams by a predetermined distance along a first axis, thereby exposing a plurality of pixels along the first axis with the desired exposure pattern. A translation stage moves the substrate a predetermined distance along a second axis to position the substrate for a subsequent exposure of pixels along the first axis that results in a desired overlapping exposure dose profile. Cette invention concerne un système lithographique par balayage ligne par ligne synchrone multi-faisceau, comprenant un processeur qui génère des signaux électriques représentant un schéma d'exposition souhaité en sortie. Une source multi-faisceau de rayonnement d'exposition génère une pluralité de faisceaux d'exposition. Un modulateur de faisceaux reçoit les signaux électriques produits par le processeur et module la pluralité des faisceaux d'exposition en fonction du schéma d'exposition souhaité. Un déflecteur de faisceaux dévie la pluralité des faisceaux d'exposition d'une distance prédéterminée sur un premier axe, ce qui a pour conséquence d'exposer une pluralité de pixels sur ce premier selon le schéma d'exposition souhaité. Un étage de translation déplace le substrat sur une distance prédéterminée le long d'un second axe de manière à positionner le substrat en vue d'une exposition subséquente de pixels selon le premier axe, ce qui permet d'obtenir un profil de chevauchement d'exposition de la valeur souhaitée.