CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION

• Main Authors: WAKIYA, KAZUMASA, KOSHIYAMA, JUN, SAWADA, YOSHIHIRO, MIYAMOTO, ATSUSHI, TAJIMA, HIDEKAZU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 15.06.2006
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

This invention provides a novel cleaning liquid for lithography that, for a photoresist pattern, is used for reducing a surface defect, that is, defect, of a product, preventing pattern collapse during water rinsing, and further imparting electron beam irradiation resistance to a resist to suppress pattern shrinkage. Further, in the novel cleaning liquid for lithography, bacteria contamination does not occur during storage. The cleaning liquid for lithography comprises an aqueous solution containing an amine oxide compound represented by general formula wherein R1 represents an alkyl or hydroxyalkyl group having 8 to 20 carbon atoms which may be interrupted by an oxygen atom; and R2 and R3 represent an alkyl or hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms. La présente invention concerne un liquide de nettoyage novateur pour lithographie que l'on utilise pour un motif de photorésine afin de réduire un défaut superficiel, c'est-à-dire un défaut de produit, empêchant la disparition de motif pendant le rinçage à l'eau et conférant en outre une résistance à l'irradiation de faisceau électronique à une résine pour supprimer tout rétrécissement de motif. De plus, dans le liquide de nettoyage novateur pour lithographie, il n'y a aucune contamination bactérienne pendant le stockage. Le liquide de nettoyage pour lithographie comprend une solution aqueuse contenant un composé d'oxyde amine représenté par la formule générale où R1 représente un groupe alkyle ou hydroxyalkyle ayant de 8 à 20 atomes de carbone qui peut être interrompu par un atome d'oxygène ; et R2 et R3 représentent un groupe alkyle ou hydroxyalkyle ayant de 1 à 5 atomes de carbone.