A COMPOSITION FOR COATING OVER A PHTORESIST PATTERN

• Main Authors: KUDO, TAKANORI, PADMANABAN, MUNIRATHNA, DAMMEL, RALPH. R
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 04.05.2006
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The present invention relates to an aqueous coating composition for coating a photoresist pattern comprising a polymer containing amino group. The present invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device comprising providing a substrate with a photoresist pattern, coating the photoresist pattern with the novel coating material reacting a portion of the coating material in contact with the photoresist pattern, and removing a portion of the coating material which is not reacted with a removal solution. La présente invention concerne une composition de revêtement aqueuse destinée à être appliquée sur un motif de résine photosensible, comprenant un polymère contenant un groupe amino. La présente invention concerne également un procédé destiné à la fabrication d'un dispositif micro-électronique, consistant à utiliser un substrat comportant un motif de résine photosensible, à appliquer la composition sur le motif de résine photosensible, à faire réagir une partie de la composition en contact avec le motif de résine photosensible, puis à retirer une partie de la composition qui n'a pas réagi à l'aide d'une solution prévue à cet effet.