IN-LINE PROCESS FOR MAKING THIN FILM ELECTRONIC DEVICES
An in-line process for making a thin film electronic device on a substrate is described comprising the steps of: a) depositing a structurable layer onto a substrate; b) depositing a patternable material onto the structurable layer in a first pattern; and c) etching the structurable layer in areas un...
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Main Authors | , , |
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
02.03.2006
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Edition | 7 |
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Summary: | An in-line process for making a thin film electronic device on a substrate is described comprising the steps of: a) depositing a structurable layer onto a substrate; b) depositing a patternable material onto the structurable layer in a first pattern; and c) etching the structurable layer in areas uncovered by the patternable material. The steps are carried out without intermediate exposure of the substrate to ambient air.
L'invention porte sur un procédé en ligne de fabrication d'un dispositif électronique à film mince sur un substrat, comprenant les phases suivantes : a) déposition d'une couche structurable sur un substrat ; b) déposition d'un matériau de formation de motifs sur la couche structurable selon un premier motif ; et c) attaque chimique de la couche structurable dans des zones découvertes par le matériau de formation de motifs. Les phases se déroulent sans exposition intermédiaire du substrat à l'air ambiant. |
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Bibliography: | Application Number: WO2005EP54157 |