RINSING FLUID FOR LITHOGRAPHY

• Main Authors: WAKIYA, KAZUMASA, KANEKO, FUMITAKE, KOSHIYAMA, JUN, SAWADA, YOSHIHIRO, MIYAMOTO, ATSUSHI, TAJIMA, HIDEKAZU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 03.11.2005
• Edition: 7
• Subjects: ANIMAL AND VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES AND WAXES; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CANDLES; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; DETERGENT COMPOSITIONS; DETERGENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; FATTY ACIDS THEREFROM; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; RECOVERY OF GLYCEROL; RESIN SOAPS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SOAP OR SOAP-MAKING; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS

The invention provides a novel rinsing fluid which can convert an easily wettable resist pattern surface having a contact angel of 40° or below into one having a contact angle of 70° or above to inhibit pattern collapse effectively and thereby give high-quality products. The rinsing fluid consists of a solution containing at least one fluorine compound soluble in water or alcoholic solvents which is selected from among compounds represented by the general formula (||), those represented by the general formula (|||), and those represented by the general formula: Rf<'>-COOH: wherein R and R are each optionally substituted C1-5 alkyl whose hydrogen atoms are partially or wholly replaced by fluorine, or R and R together with the SO2 groups to which they are bonded and the nitrogen atom may form a five- or six-membered ring; Rf is optionally substituted C1-5 alkyl whose hydrogen atoms are partially or wholly replaced by fluorine; m and n are each an integer of 2 or 3; and Rf<'> is at least partially fluorinated alkyl having 8 to 20 carbon atoms. L'invention fournit un nouveau fluide de rinçage susceptible de convertir une surface de motif de résist facilement humectable ayant un angle de contact inférieur ou égal à 40° en une surface ayant un angle de contact supérieur ou égal à 70° pour empêcher l'effondrement du motif de manière efficace et donc donner des produits de grande qualité. Le fluide de rinçage se compose d'une solution contenant au moins un composé fluoré soluble dans l'eau ou dans des solvants alcooliques sélectionné parmi les composés représentés par la formule générale (I), les composés représentés par la formule générale (II) et les composés représentés par la formule générale : Rf<'>-COOH: (I) (II) où R et R² sont chacun un alkyle C1-5 substitué en option dont les atomes d'hydrogène sont remplacés partiellement ou complètement par du fluor, ou R et R² de même que les groupes SO2 auxquels ils sont liés et l'atome d'azote peuvent constituer un anneau à cinq ou six éléments ; Rf est un alkyle C1-5 substitué en option dont les atomes d'hydrogène sont remplacés partiellement ou complètement par du fluor ; m et n sont chacun un entier de 2 ou 3 ; et Rf' est un alkyle au moins partiellement fluoré ayant 8 à 20 atomes de carbone.