HEAT-RESISTANCE REFRACTOR AND OPTICAL DEVICE MOUNTED WITH SAME

For adaptation to smaller sized and higher luminance of optical devices such as projectors and light sources, a dielectric alternate multilayer reflective film excellent in heat resistance is formed on a concave surface of a heat-resistance inorganic base of a reflector to ensue the heat resistance...

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Main Authors NAKASHIMA, MASAZUMI, KURITA, SUMIHIKO
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 06.05.2005
Edition7
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Summary:For adaptation to smaller sized and higher luminance of optical devices such as projectors and light sources, a dielectric alternate multilayer reflective film excellent in heat resistance is formed on a concave surface of a heat-resistance inorganic base of a reflector to ensue the heat resistance of a practical reflector. Irrespective of the reflective film depositing means, if the scratch resistance of the reflective film is 0.02 kgf or more, the reflector can have an unconventional excellent heat resistance against 500°C or more, enabling adaptation to smaller size and higher luminance of optical devices. Selon l'invention, un film réfléchissant multicouche alterné diélectrique présentant une excellente résistance thermique est formé sur une surface concave de la base inorganique thermo-résistante d'un réflecteur, de sorte à assurer la résistance thermique dudit réflecteur. Ce film réfléchissant est destiné à être adapté à des dispositifs optiques de petite taille à luminance élevée, tels que des projecteurs et des sources de lumière. Quel que soit le moyen de dépôt de film réfléchissant, si la résistance à la rayure dudit film est de 0,02 kgf ou supérieure, le réflecteur peut présenter d'excellentes propriétés de résistance thermique à une température de 500 DEG C ou supérieure, ce qui permet d'adapter ledit film à des dispositifs optiques de petite taille à luminance élevée.
Bibliography:Application Number: WO2004JP15409