METHOD OF DETERMINING OPTICAL PROPERTIES AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM COMPRISING A WAVE FRONT DETECTION SYSTEM

• Main Authors: SAKOWSKI, HARALD, EMER, WOLFGANG, WEGMANN, ULRICH, SCHRIEVER, MARTIN, LAUER, STEFFEN
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 07.04.2005
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A method of determining optical properties of a projection exposure system which comprises: a beam delivery system including a light source for generating an exposure optical beam having light of a first wavelength (lambda1) and a second wavelength (lambda2), wherein a first ratio is defined as an intensity of light of lambda2 to an intensity of light of lambda1 in the exposure optical beam; the method comprising: supplying at least one measuring optical beam comprising light of at least lambda1 having wavefronts to a projection optical system; detecting wavefronts having passed the projection optical system and determining the optical properties in dependence of the detected wavefronts; wherein a second ratio of an intensity of light of lambda2 to an intensity of light of lambda1 in the measuring optical beam being incident on the detector of the wavefront detection system is less than the first ratio. L'invention décrit un procédé de détermination des propriétés optiques d'un système d'exposition par projection, qui comprend un système de diffusion de faisceaux équipé d'une source lumineuse qui produit un faisceau optique d'exposition présentant une lumière de première longueur d'onde (<1) et de seconde longueur d'onde (?2), un premier rapport étant défini comme intensité lumineuse (?2 à ?1) dans le faisceau optique d'exposition. Ce procédé consiste à: fournir à un système optique de projection au moins un faisceau optique de mesure contenant la lumière d'au moins (?1) présentant des surfaces d'onde; détecter les surfaces d'onde ayant traversé le système optique de projection et déterminer les propriétés optiques en fonction des formes d'onde détectées; un second rapport d'intensité lumineuse (?2 à ?1) dans le faisceau optique de mesure tombant sur le détecteur du système de détection de surfaces d'onde étant inférieur au premier rapport.