CERAMIC FILM STRUCTURE AND FORMING METHOD AND DEVICE THEREFOR

• Main Authors: BABA, SOU, AKEDO, JUN
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.04.2005
• Edition: 7
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; SOLDERING OR UNSOLDERING; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TRANSPORTING; WELDING; WORKING BY LASER BEAM

A fine crystal ceramic film formed by an aerosol deposition method or the like is heat treated by laser irradiation using the optical characteristics of infrared rays, with respect to a ceramic material, of being easily absorbed by ceramics itself but reflected off metal, thereby providing a ceramic film structure in which a fine crystal ceramic film is not stripped off a substrate and which permits grain growth and defect recovery; and a forming method and device therefore. The forming method for the ceramic film structure is characterized by applying infrared laser to fine crystal ceramic film that has been formed in advance on a metal substrate. L'invention concerne un film céramique cristallin fin formé au moyen d'une méthode de dépôt aérosol ou analogue. Ce film est thermiquement traité par un rayonnement laser au moyen de caractéristiques optiques de rayons infrarouges, par rapport à un matériau céramique, de caractéristiques d'absorption faciles par la céramique elle-même et de réflexion par des métaux. Ceci permet d'obtenir une structure de film céramique dans laquelle un film céramique cristallin fin n'est pas strippé d'un substrat, et permettant une croissance de grain et une récupération de défaut. L'invention concerne également une méthode de formation et un dispositif associé. L'invention concerne une méthode de formation pour la structure de film céramique. Cette méthode est caractérisée par l'application d'un laser infrarouge sur un film céramique cristallin fin formé par avance sur un substrat métallique.