METHOD FOR COATING A SUBSTRATE SURFACE USING A PLASMA BEAM
Bei einem Verfahren wird zur Beschichtung einer Substratoberfläche (4) unter Verwendung eines Plasmastrahles (2) auf die Substratoberfläche (4) ein Strahl (2) eines Niedertemperaturplasmas gerichtet. Dem Strahl (2) wird hierbei ein feinkörniges, die Beschichtung bildenes Pulver in genau dosierter Me...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
07.04.2005
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Edition | 7 |
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Summary: | Bei einem Verfahren wird zur Beschichtung einer Substratoberfläche (4) unter Verwendung eines Plasmastrahles (2) auf die Substratoberfläche (4) ein Strahl (2) eines Niedertemperaturplasmas gerichtet. Dem Strahl (2) wird hierbei ein feinkörniges, die Beschichtung bildenes Pulver in genau dosierter Menge zugefügt. Vorteilhaft ist die Korngrösse des feinkörnigen Pulvers oder der Pulvergemische im Nanometerbereich, insbesondere zwischen 1 bis 10000 Nanometer. Damit kann das Pulver gut haftend und mit einer hohen Lebensdauer aufgetragen werden.
The invention relates to a method for coating a substrate surface (4) using a plasma beam (2), by directing a beam (2) of a low temperature plasma at the substrate surface (4). A fine granular powder, forming the coating is added to the beam (2) in precisely metered amounts. The particle size of the fine powder or the powder mixture is preferably in the nanometre range, in particular, 1 to 10,000 nanometres. The powder can thus be applied with good bonding and with high service life.
Selon ce procédé de revêtement de la surface (4) d'un substrat, avec utilisation d'un jet de plasma (2), un jet (2) d'un plasma à basse température est dirigé sur la surface (4) du substrat. On incorpore au jet (2) une quantité exactement dosée d'une poudre à grain fin formant le revêtement. Avantageusement, la granulométrie de la poudre à grain fin ou du mélange de poudre est de l'ordre du nanomètre et est comprise, en particulier, entre 1 et 10000 nanomètres. La poudre peut ainsi être appliquée avec une bonne adhérence et une durée de vie élevée. |
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Bibliography: | Application Number: WO2004EP10675 |