CERAMIC ARTICLE HAVING CORROSION-RESISTANT LAYER, SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS INCORPORATING SAME, AND METHOD FOR FORMING SAME
An article-is provided that includes a substrate and a corrosion-resistant coating provided on the substrate. The substrate generally consists essentially of alumina, and the corrosion-resistant coating is provided so as to directed contact the substrate without the provision of intervening layers b...
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Main Authors | , |
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
10.03.2005
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Edition | 7 |
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Summary: | An article-is provided that includes a substrate and a corrosion-resistant coating provided on the substrate. The substrate generally consists essentially of alumina, and the corrosion-resistant coating is provided so as to directed contact the substrate without the provision of intervening layers between the substrate and the corrosion-resistant coatin, such as reaction products provided by high-temperature treatment processes. The corrosion-resistant coating generally consists essentially of a rare earth oxide, and has an adhesion strength not less than about 15 MPa. According to particular embodiments, the article is a ceramic component utilized and implemented in a semiconductor processing apparatus for processing semiconductor wafers.
L'invention concerne un article qui comporte un substrat sur lequel est posé un revêtement résistant à la corrosion. Ledit substrat est d'ordinaire constitué essentiellement d'alumine, le revêtement résistant à la corrosion étant destiné à venir directement en contact avec le substrat sans l'intervention de couches entre lesdits substrat et revêtement résistant à la corrosion, par exemple des produits de réaction obtenus par des procédés de traitement à haute température. Le revêtement résistant à la corrosion, d'ordinaire constitué essentiellement d'oxyde des terres rares, présente une force d'adhérence au moins égale à environ 15 Mpa. Selon des modes de réalisation particuliers, l'article est un composant céramique utilisé et mis en oeuvre dans un appareil de traitement à semi-conducteurs conçu pour le traitement de plaquettes semi-conductrices. |
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Bibliography: | Application Number: WO2004US26764 |