SILSESQUIOXANE RESIN, POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT INCLUDING RESIST, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN

• Main Authors: NAKAMURA, TSUYOSHI, TAMURA, KOKI, YAMADA, TOMOTAKA, HOSONO, TAKAYUKI, HIRAYAMA, TAKU, KAWANA, DAISUKE
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 10.09.2004
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

A silsesquioxane resin effective in diminishing a degassing phenomenon; a positive resist composition; a layered product including a resist; a method of forming a resist pattern; and a silicone-containing resist composition and a method of resist pattern formation which are suitable for use in immersion lithography. The silsesquioxane resin has structural units represented by the following general formulae (wherein R and R each independently is a linear, branched, or cyclic, saturated aliphatic hydrocarbon group; R is an acid-dissociating dissolution-inhibitive group consisting of a hydrocarbon group comprising a mono- or polycyclic group; R is hydrogen or linear, branched, or cyclic alkyl; X is C1-8 alkyl in which at least one hydrogen has been replaced with fluorine; and m is an integer of 1 to 3). L'invention concerne une résine de silsesquioxane permettant de diminuer le phénomène de dégazage ; une composition de résine positive ; un produit stratifié comprenant une résine ; un procédé de formation d'un motif de résine ; et une composition de résine contenant du silicium et un procédé de formation d'un motif de résine pouvant être utilisé en lithographie à immersion. La résine de silsesquioxane comprend des unités structurales représentées par la formule générale suivante (dans laquelle R et R désignent chacun un groupe hydrocarbure aliphatique saturé, linéaire, ramifié ou cyclique ; R désigne un groupe inhibiteur de dissolution acide formé d'un groupe hydrocarbure comprenant un groupe mono- ou polycyclique ; R désigne un hydrogène ou un alkyle linéaire, ramifié ou cyclique ; X désigne un alkyle en C1-8 dans lequel au moins un atome d'hydrogène a été remplacé par un atome de fluor ; et m désigne un entier compris entre 1 et 3).