LASER BEAM INSPECTION EQUIPMENT
A laser beam inspection equipment for inspecting the flaw of a sample, e.g. a semiconductor integrated circuit, utilizing a laser beam. The laser beam inspection equipment irradiates a sample, supplied with a constant current or applied with a constant voltage, with a laser beam and indirectly detec...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
05.08.2004
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Edition | 7 |
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Summary: | A laser beam inspection equipment for inspecting the flaw of a sample, e.g. a semiconductor integrated circuit, utilizing a laser beam. The laser beam inspection equipment irradiates a sample, supplied with a constant current or applied with a constant voltage, with a laser beam and indirectly detects a current variation or an electric field variation corresponding to a variation in the resistance of the sample caused by scanning the surface of the sample with the laser beam. For example, the current variation is detected indirectly by detecting a variation in the magnetic field caused by a current flowing through a feeder line between a constant voltage source and the sample by means of a magnetic field detector, and a defective part of the sample can be specified by detecting the variation in the magnetic field.
L'invention concerne un équipement d'inspection à faisceau laser permettant d'inspecter les défauts d'un échantillon, tel qu'un circuit intégré semi-conducteur, à l'aide d'un faisceau laser. Cet équipement d'inspection à faisceau laser permet de balayer la surface d'un échantillon avec un faisceau laser à intensité constante ou à tension constante et de détecter indirectement une variation d'intensité ou une variation dans un champ électrique correspondant à une variation dans la résistance de l'échantillon. Par exemple, pour détecter indirectement une variation d'intensité, l'équipement utilise un détecteur de champ magnétique permettant de détecter une variation dans le champ magnétique due à un courant traversant une ligne d'alimentation entre une source à tension constante et l'échantillon. L'équipement est capable d'indiquer l'emplacement d'une partie défectueuse dans un échantillon à partir de la variation dans le champ magnétique. |
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Bibliography: | Application Number: WO2004JP00335 |