POSITION MEASUREMENT METHOD, POSITION MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND EXPOSURE DEVICE

• Main Authors: KONDO, NAOTO, HAGIWARA, TSUNEYUKI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 29.07.2004
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Highly-accurate focus adjustment is performed by eliminating adverse affect attributed to reflectivity distribution. Detection light is applied to a measurement position on a substrate and reflected light reflected from the measurement position is received, thereby measuring position information in the normal direction of the substrate surface. The position measurement method includes a step for measuring an error component of the position information caused by reflectivity distribution of the detection light at the measurement position on the substrate and a step for correcting the position information in the normal direction according to the error component measured. L'invention concerne une mise au point d'une exactitude élevée que l'on exécute en éliminant l'effet nuisible attribué à une distribution de réflectivité. La lumière de détection est appliquée à une position de mesure sur un substrat et une lumière se réfléchissant de la position de mesure est reçu, ce qui mesure les informations de position dans la direction normale de la surface du substrat. Le procédé de mesure de position consiste à mesurer un composant d'erreur des informations de position causé par la distribution de réflectivité de la lumière de détection à la position de mesure sur le substrat et à corriger les informations de position dans la direction normale en fonction du composant d'erreur mesuré.