SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATES USING DENSE PHASE GAS AND SONIC WAVES

Embodiments of the invention are directed to substrate processing apparatuses and methods for processing substrates. In one embodiment, a substrate processing apparatus includes a processing chamber, a substrate holder inside of the processing chamber for holding a substrate, and a sonic box in the...

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Main Authors RUCH, VINCENT, PERRUT, VINCENT, FRESQUET, GILLES, CHING, GIL
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 03.06.2004
Edition7
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Summary:Embodiments of the invention are directed to substrate processing apparatuses and methods for processing substrates. In one embodiment, a substrate processing apparatus includes a processing chamber, a substrate holder inside of the processing chamber for holding a substrate, and a sonic box in the processing chamber for supplying sonic waves substantially perpendicularly to the substrate. The sonic box may comprises a membrane, and a transducer coupled to the membrane. Dans un mode de réalisation de l'invention, des appareils et des procédés sont destinés à traiter des substrats. Dans un mode de réalisation, un appareil de traitement de substrats comprend une chambre de traitement, un porte-substrat contenu à l'intérieur de la chambre de traitement et destiné à maintenir le substrat, et une boîte sonique destinée à envoyer des ondes sonores de manière sensiblement perpendiculaire au substrat. La boîte sonique peut comprendre une membrane et un transducteur couplé à la membrane.
Bibliography:Application Number: WO2003IB06411