DEVICE AND METHOD FOR MODIFYING THE SURFACE OF A WORKPIECE USING PHOTONIC RADIATION

• Main Authors: BAEUERLE, DIETER, PIGLMAYER, KLAUS
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 03.07.2003
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACHINE TOOLS; MATERIALS THEREFOR; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ORIGINALS THEREFOR; PERFORMING OPERATIONS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SOLDERING OR UNSOLDERING; TRANSPORTING; WELDING; WORKING BY LASER BEAM

Vorrichtung und Verfahren zum Modifizieren einer Werkstück-Oberfläche (1') mit Hilfe von Photonen-Strahlung (2), insbesondere Laser-Strahlung, mit einer Strahlungsquelle (3) und einer Maskeneinrichtung für die Strahlung, wobei die Maskeneinrichtung durch auf einem für die Strahlung (2) durchlässigen Träger (7), auf dessen dem Werkstück (1) zugewandter Seite haftend angebrachte Einzellinsenelemente (9) gebildet ist und die Strahlung (2) durch die Einzellinsenelemen te (9) in Teilstrahlen (10) gebündelt wird. The invention relates to a device and a method for modifying the surface (1') of a workpiece using photonic radiation (2), especially laser radiation. Said device comprises a radiation source (3) and a mask device, said mask device being configured by a support (7), permeable to the radiation (2), to whose side facing the workpiece (1) individual lens elements (9) are adhered and the radiation (2) is bundled into partial beams (10) by the individual lens elements (9). L'invention concerne un dispositif et un procédé pour modifier la surface (1') d'une pièce à usiner par rayonnement de photons (2), notamment par rayonnement laser, au moyen d'une source de rayonnement (3) et d'un dispositif de masque pour le rayonnement. L'invention est caractérisée en ce que ce dispositif de masque est composé d'éléments lentilles individuels (9) montés par adhésion sur un support (7) perméable au rayonnement (2), sur la face de celui-ci orientée vers la pièce à usiner (1), le rayonnement (2) étant focalisé en rayons partiels (10) par les éléments lentilles individuels (9).