APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING ELECTRONIC COMPONENT RECURSORS

Methods and apparatus for processing electronic component precursors include contacting a carrier gas with a process chemical to form a fluid stream and either further contacting the stream with additional process chemical or carrier gas to increase or decrease the concentration of the fluid. An app...

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Main Author DIBELLO, GERALD, N
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 05.06.2003
Edition7
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CLEANING
CLEANING IN GENERAL
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
PERFORMING OPERATIONS
PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
SEMICONDUCTOR DEVICES
TRANSPORTING
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Summary:Methods and apparatus for processing electronic component precursors include contacting a carrier gas with a process chemical to form a fluid stream and either further contacting the stream with additional process chemical or carrier gas to increase or decrease the concentration of the fluid. An apparatus for practicing the methods includes a first manifold (24) connected to a carrier gas source (10) for receiving a fluid stream formed by the carrier gas and a second manifold (25) in fluid communication with the first manifold (24) for receiving a process chemical and injecting it into the stream thereby forming a localized region of increased concentration of process chemical. L'invention concerne des procédés et un dispositif de traitement de précurseurs de composants électroniques. Le procédé consiste à mettre un gaz vecteur en contact avec un agent chimique de traitement en vue de former un courant fluidique, puis à mettre ce courant fluidique en contact avec un gaz vecteur ou un agent chimique de traitement additionnel de façon à réduire ou augmenter la concentration du fluide. L'invention concerne également un dispositif destiné à la mise en oeuvre de ces procédés et comprenant un premier collecteur (24) relié à une source de gaz vecteur (10) et permettant de recevoir un courant fluidique formé par le gaz vecteur, ainsi qu'un second collecteur (25) mis en communication fluidique avec le premier collecteur (24) et permettant de recevoir un agent chimique de traitement et de l'injecter dans ledit courant, d'où la formation d'une zone localisée présentant une concentration accrue d'agent chimique de traitement.
Bibliography:Application Number: WO2002US37445