ELECTRON BEAM APPARATUS AND DEVICE PRODUCTION METHOD USING THE APPARATUS

An electron beam apparatus which has its throughput, accuracy and the like improved, and which comprises a plurality of optical systems each including a primary electron optical system for irradiating for scanning a sample with a plurality of primary electron beams, a detector for detecting a plural...

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Main Authors HAMASHIMA, MUNEKI, SAITO, MUTSUMI, YOSHIKAWA, SHOJI, OOWADA, SHIN, NOJI, NOBUHARU, KOHAMA, YOSHIAKI, KARIMATA, TSUTOMU, KIMBA, TOSHIFUMI, OKUBO, YUKIHARU, NAKASUJI, MAMORU, SATAKE, TOHRU, SOBUKAWA, HIROSI
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 10.05.2002
Edition7
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Summary:An electron beam apparatus which has its throughput, accuracy and the like improved, and which comprises a plurality of optical systems each including a primary electron optical system for irradiating for scanning a sample with a plurality of primary electron beams, a detector for detecting a plurality of secondary electron beams generated by the irradiation of the sample with the primary electron beams, and a secondary electron optical system for guiding the secondary electron beams from the sample to the detector, characterized in that each of the plurality of optical systems is disposed so as to scan mutually different areas on the sample with primary electron beams to detect secondary electron beams respectively generated from these areas, thereby enabling a high throughput. Various methods are used in aligning optical systems and correcting aberration in the apparatus for the purpose of enhancing accuracy. L'invention concerne un appareil à faisceau électronique à rendement, précision, et analogue améliorés. Cet appareil comprend une pluralité de systèmes optiques dotés chacun d'un système optoélectronique primaire destiné à irradier un échantillon à balayer à l'aide d'une pluralité de faisceaux électroniques primaires; un détecteur destiné à détecter une pluralité de faisceaux électroniques secondaires générés par l'irradiation de l'échantillon à l'aide des faisceaux électroniques primaires; et un système optoélectronique secondaire destiné à guider les faisceaux électroniques secondaires de l'échantillon vers le détecteur. Cet appareil est caractérisé en ce que chaque système optique est disposé de façon à balayer mutuellement différentes zones de l'échantillon à l'aide de faisceaux électroniques primaires afin de détecter les faisceaux électroniques secondaires respectivement générés à partir de ces zones, ce qui permet d'obtenir un rendement élevé. On utilise différents procédés pour aligner les systèmes optiques et corriger les aberrations de l'appareil afin d'améliorer sa précision.
Bibliography:Application Number: WO2001JP09631