CYCLIC PHOSPHAZENES, PROCESS FOR PREPARING THEM, FLAME RETARDANTS CONTAINING THE SAME AS THE ACTIVE INGREDIENT, AND RESIN COMPOSITIONS AND MOLDED ARTICLES CONTAINING THE FLAME RETARDANTS

Cyclic phosphazenes of the general formula (I) excellent as flame retardants for resins, which are characterized by being substantially free from linear phsophazenes of the general formula (II) and having an extremely lowered halogen content; a process for preparing them; flame retardants containing...

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Main Authors NISHIMATSU, MASAYUKI, OHMAE, YOSHINORI, FUKUOKA, NAOHIKO, YASUDA, HEINOSUKE
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 12.12.2002
Edition7
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Summary:Cyclic phosphazenes of the general formula (I) excellent as flame retardants for resins, which are characterized by being substantially free from linear phsophazenes of the general formula (II) and having an extremely lowered halogen content; a process for preparing them; flame retardants containing the same as the active ingredient; and resin compositions and molded articles, containing the flame retardants: (I) [wherein Q is halogeno and/or aryloxy; and m is an integer of 3 to 10] (II) [wherein Q is halogeno and/or aryloxy; and n is an integer of 1 to 20]. La présente invention concerne des phosphazènes cycliques représentés par la formule générale (II) et constituant d'excellents ignifugeants pour les résines. Ces phosphazènes se caractérisent en ce qu'ils sont essentiellement exempts phpsphazènes linéaires représentés par la formule générale (II), tout en ayant une très faible teneur en halogènes. L'invention concerne également un procédé pour l'élaboration de ces phosphazènes. L'invention concerne enfin des ignifugeants à base de ces phosphazènes ainsi que des compositions de résines et des articles moulés contenant les ignifugeants de l'invention. Dans la première formule générale (I), Q est halogéno et/ou aryloxy, m étant un entier de 2 à 10. Dans la deuxième formule générale (II), Q est halogéno et/ou aryloxy, m étant un entier de 1 à 20.
Bibliography:Application Number: WO2002JP05554