PHASE SHIFT MASK AND SYSTEM AND METHOD FOR MAKING THE SAME

• Main Author: LUKANC, TODD
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 08.08.2002
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A phase shift mask and a system and method for making the same are provided. The phase shift mask comprises a number of phase shifters (173, 176) that define a number of active gate areas (113). Each of the active gate areas (113) is associated with one of a number of active regions (103) of a predefined circuit. The phase shift mask also includes at least one joined phase shifter (183) defining at least two of the active gate areas (113). The joined phase shifter (183) extends between at least two of the active regions (103). La présente invention concerne un masque à décalage de phases, un système et un procédé de fabrication afférent. Le masque à décalage de phases comprend un certain nombre de déphaseurs (173, 176) qui définissent un certain nombre de zones de grille actives (113). Chacune des zones de grille actives (113) est associée à une des nombreuses régions actives (103) d'un circuit prédéfini. Le masque à décalage de phases peut également comprendre au moins un déphaseur connecté (183) définissant au moins deux des zones de grille actives (113). Le déphaseur connecté (183) s'étend entre au moins deux des régions actives (103).