POLISHING PAD GROOVING METHOD AND APPARATUS
Grooves (70, 76, 78, & 80-82) are formed in a CMP pad (12) by positioning the pad (12) on a supporting surface (10) with a working surface (22) of the pad (12) in spaced relation opposite to a router bit (24) and at least one projecting stop member (33) adjacent to the router bit (24), an outer...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
10.01.2002
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Edition | 7 |
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Summary: | Grooves (70, 76, 78, & 80-82) are formed in a CMP pad (12) by positioning the pad (12) on a supporting surface (10) with a working surface (22) of the pad (12) in spaced relation opposite to a router bit (24) and at least one projecting stop member (33) adjacent to the router bit (24), an outer end portion of the bit (24) projecting beyond the stop (33). When the bit (24) is rotated, relative axial movement between the bit (24) and the pad (12) causes the outer end portion of the bit (24) to cut an initial recess in the pad (12). Relative lateral movement between the rotating bit (24) and the pad (12) then forms a groove (70) which extends laterally away from the recess and has a depth substantially the same as that of the recess. The depths of the initial recess and the groove (70) are limited by applying a vacuum to the working surface (22) of the pad (12) to keep it in contact with the stop member(s) (33). Different lateral movements between the bit (24) and the pad (12) are used to form a variety of groove patterns (76, 78, & 80-82), the depths of which are precisely controlled by the stop member(s) (33).
Selon l'invention, des sillons (70, 76, 78 et 80-82) sont formés dans un disque CMP (12) par positionnement de ce dernier sur une surface de support (10). La surface de travail (22) du disque (12) fait face, dans une relation espacée, à une arête tranchante (24) et à au moins un élément d'arrêt protubérant (33) adjacent à l'arête tranchante (24), une partie d'extrémité distale de l'arête (24) saillant au-delà de l'élément d'arrêt (33). Lorsque l'arête (24) est mise en rotation, le mouvement axial relatif entre l'arête (24) et le disque (12) amène la partie d'extrémité distale de l'arête (24) à inciser un évidement initial dans le disque (12). Un mouvement latéral relatif entre l'arête rotative (24) et le disque (12) forme alors un sillon (70) qui s'éloigne latéralement de l'évidement et présente une profondeur sensiblement identique à celle de l'évidement. La profondeur de l'évidement initial et du sillon (70) est limitée par une dépression formée à la surface de travail (22) du disque (12) afin de maintenir cette surface au contact de l'élément ou des éléments d'arrêt (33). Différents mouvements latéraux entre l'arête (24) et le disque (12) sont mis en oeuvre pour former divers motifs de sillons (76, 78 et 80-82) dont la profondeur est réglée avec précision par le ou les éléments d'arrêt (33). |
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Bibliography: | Application Number: WO2001US20556 |