FILTER CARTRIDGE FOR MICROFILTRATION AND METHOD FOR MANUFACTURE THEREOF

• Main Author: OHTANI, SUMIO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 20.12.2001
• Edition: 7
• Subjects: AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SEPARATION; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDEDFOR; SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; TRANSPORTING; WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL

A filter cartridge for microfiltration having a microporous filtration membrane, a membrane support, a core, a peripheral cover and an endplate which are all made of a polysulfone type polymer, characterized in that a member formed through melting by heat in the above component is subjected to an annealing treatment; and a method for manufacturing the filter cartridge. The filter cartridge is excellent in chemical resistance and filtration stability and generates no toxic gases when being burned in waste treatment, and further, when used in high temperature filtration of isopropanol and the like in a semiconductor production process and the like, is free from the occurrence of cracking in its components. L'invention porte sur une cartouche de filtre pour microfiltration qui comporte une membrane de filtration microporeuse, un support de membrane, une partie centrale, un couvercle périphérique et une plaque terminale, tous ces éléments étant fabriqués dans un polymère de type polysulfone. Cette cartouche se caractérise en ce qu'un élément formé par fusion par la chaleur dans le composant précité est soumis à un traitement de recuit. L'invention porte également sur un procédé de fabrication de cette cartouche de filtre. La cartouche de cette invention présente une excellente résistance chimique et une excellente stabilité de filtration, et ne génère pas de gaz toxiques lors de sa combustion dans des traitements< >de résidus, et d'autre part, lorsqu'elle est utilisée dans la filtration à haute température d'isopropanol dans un procédé de production de semi-conducteurs, il n'y a pas d'apparition de craquelures dans ses composants.