PROCESS FOR MAKING DURABLE TITANIUM DIOXIDE PIGMENT BY VAPOR PHASE DEPOSITION

• Main Authors: DIEMER, RUSSELL, BERTRUM, JR, SUBRAMANIAN, NARAYANAN, SANKARA, GAI, PRATIBHA, LAXMAN
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 28.02.2002
• Edition: 7
• Subjects: ADHESIVES; CHEMISTRY; COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSESC01D OR C01F; DYES; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; PAINTS; POLISHES; PREPARATION OF CARBON BLACK; TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS,TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES

The present invention relates to a process for making durable titanium dioxide pigment by vapor phase deposition of surface treatments on the titanium dioxide particle surface by reacting titanium tetrachloride vapor, an oxygen containing gas and aluminum chloride in a plug flow reactor to form a product stream containing titanium dioxide particles; and introducing silicon tetrachloride into the reactor at a point down stream of the point where the titanium tetrachloride and oxygen were contacted and where at least 97% of the titanium tetrachloride has been converted to titanium dioxide or where the reaction temperature is no greater than about 1200 oC, and preferably not more than about 1100 oC. The invention further relates to titanium dioxide pigments obtained by the method and to a method to determine a pint of introduction of silicon tetrachloride into a plug flow reactor used for preparing the pigment. La présente invention concerne un procédé de réalisation de pigment de dioxyde de titane durable qui consiste à réaliser un dépôt chimique en phase vapeur de traitements de surface, sur la surface d'une particule de dioxyde de titane, par mise en réaction de vapeur de tétrachlorure de titane, d'un gaz contenant de l'oxygène et de chlorure d'aluminium dans un réacteur à écoulement piston afin de former un courant de produit contenant des particules de dioxyde de titane, à introduire du tétrachlorure de silicium dans le réacteur à un point en aval du point où a lieu la mise en contact du tétrachlorure de titane et de l'oxygène et où au moins 97 % a été converti en dioxyde de titane ou bien où la température de réaction n'est pas supérieure à 1200 DEG C environ, et de préférence inférieure à 1100 DEG C environ.