METHOD AND SYSTEM FOR THE EXAMINATION OF SPECIMEN USING A CHARGED PARTICLE BEAM

• Main Authors: GOLDENSHTEIN, ALEX, ADAMEC, PAVEL, HAAS, NADAV, BEN-AV, RADEL, PEARL, ASHER, PETROV, IGOR
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 21.06.2001
• Edition: 7
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

The present invention provides a method for the examination of specimen with a beam of charged particles. The method provides one or more images of the specimen made with different view angles, so that, compared to a single image of the specimen, a lot of additional information about the specimen can be accessed. The different view angles (angles of incidence) are achieved by tilting the beam between the two images and moving the specimen to a new position so that the displacement of the beam caused by the tilting of the beam is compensated. Accordingly, while displaying/recording the second image the beam scans over the same area as it has scanned while displaying/recording the first image. A deflection and focussing system for the compensation of chromatic aberration and examples of accurate measurements of structures on the surface of a semiconductor are also described. La présente invention concerne un procédé pour examiner un échantillon avec un faisceau de particules chargées. Le procédé consiste à fournir une ou plusieurs images de l'échantillon faites à partir d'angles de vision différents de manière à ce qu'en comparaison à une image unique de l'échantillon on puisse accéder à une multitude d'informations supplémentaires sur l'échantillon. On obtient différentes angles de vision (d'incidence) en inclinant un faisceau entre les deux images et en déplaçant l'échantillon de manière à le mettre dans une nouvelle position pour compenser l'inclinaison du faisceau provoquée par le déplacement de celui-ci. De façon similaire, lors de l'affichage/enregistrement de la deuxième image le faisceau balaie la même zone qu'il a balayé lors de l'affichage/enregistrement de la première image. L'invention concerne aussi un système de déflexion et de focalisation destiné à compenser l'aberration chromatique et des exemples de mesures précises des structures à la surface d'un semi-conducteur.