METHOD FOR QUALITY CONTROL OF MATERIAL LAYERS
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Qualitätskontrolle von Materialschichten (7), wobei die Oberfläche der Schicht mit elektromagnetischer Strahlung (8) bestrahlt wird und die Menge des von der Materialschicht ausgestrahlten Lichtes (9), beispielsweise Reflexionsstrahlung und/oder Fluoreszenzst...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
14.06.2001
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Edition | 7 |
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Summary: | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Qualitätskontrolle von Materialschichten (7), wobei die Oberfläche der Schicht mit elektromagnetischer Strahlung (8) bestrahlt wird und die Menge des von der Materialschicht ausgestrahlten Lichtes (9), beispielsweise Reflexionsstrahlung und/oder Fluoreszenzstrahlung, bestimmt wird, und wobei das Material der Schicht mit einem die Strahlung absorbierenden Stoff versehen wird.
The invention relates to a method for the quality control of material layers (7), whereby the surface of the layer is irradiated with electromagnetic radiation (8) and the amount of light (9) emitted by the material layer by, for example, reflected radiation or fluorescent radiation is determined, the material of the layer having been provided with an agent for absorbing the radiation.
L'invention concerne un procédé de contrôle de la qualité de couches de matière (7). Selon ledit procédé, la surface de la couche est soumise à un rayonnement électromagnétique (8) et la quantité de lumière (9) diffusée par la couche de matière, par exemple le rayonnement de réflexion et/ou le rayonnement de fluorescence, est déterminée, la matière constituant la couche étant pourvue d'une substance absorbant le rayonnement. |
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Bibliography: | Application Number: WO2000EP12105 |