POLISHING CARRIER, SURFACE POLISHING DEVICE, AND SURFACE POLISHING METHOD

• Main Author: KAWATE, TAKASHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.06.2000
• Edition: 6
• Subjects: DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; TRANSPORTING

A polishing carrier, wherein a total of four net-shaped areas (103) arranged between work holding holes (102) on the plate surface of the carrier are formed, the net-shaped areas (103) are formed in appropriate forms on the inner sides of the work holding holes so that an outer edge part forming external gear teeth (101) and the opening edge parts of the work holding holes (102) are separated by a specified width from the net-shaped areas, whereby, when a surface polishing is made using the polishing carrier, even an extremely thin work can be polished without any problem, and a lowering of working precision resulting from the deformation of the carrier and the probability of an accident such as work damage can be reduced. On décrit un support de polissage dans lequel un total de quatre zones (103) en forme de tamis disposées entre des trous (102) retenant l'ouvrage sont formées sur la surface de plaque du support, les zones (103) en forme de tamis étant formées de manière appropriée sur les côtés intérieurs des trous retenant l'ouvrage pour qu'une partie bord externe formant des dents (101) d'engrenage externe et les parties bord d'ouverture des trous (102) retenant l'ouvrage soient séparées d'une largeur spécifiée des zones en forme de tamis, de sorte que lorsqu'un polissage de surface est effectué à l'aide du support de polissage, même si l'ouvrage est extrêmement mince, ce dernier puisse être poli sans aucun problème, et de sorte que la diminution de la précision du travail liée à la déformation du support et que la probabilité d'un accident tel qu'une détérioration de l'ouvrage soient réduites.