OPTICAL DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND LASER BEAM SOURCE, AND GAS FEED METHOD, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: MOTEGI, KIYOSHI, OSHIKAWA, SATORU
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.06.2000
• Edition: 6
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

An optical device, an exposure system, and a laser beam source capable of suppressing a hazing from occurring on an optical element while a working environment in maintenance and at the time of abnormality is maintained in good condition, wherein an inert gas feed system (33) and a dry air feed system (35) are connected selectively to a first lens-barrel (46) and a second lens-barrel (48) of an exposure device main body (11) and a light source chamber (16) of a laser device (12), oxygen sensors (78, 42) for measuring the oxygen concentration and exhaust amount monitors (77, 41) for detecting the exhaust amount through an exhaust duct (40) are provided inside a chamber (45) of the exposure device main body (11) and a chamber (15) of the laser device (12), respectively and, when at least one of the oxygen concentration and exhaust amount detected by the oxygen sensors (78, 42) and exhaust amount monitors (77, 41) lowers below a specified value, a purge gas fed to the first and second lens-barrels (45, 46) and light source chamber (16) is switched from inert gas to dry air. L'invention se rapporte à un dispositif optique, à un système d'exposition et à une source de faisceau laser susceptible de supprimer le ternissage d'un élément optique alors qu'un environnement de travail est maintenu dans de bonnes conditions, que ce soit au cours de l'entretien courant ou lorsqu'une anomalie se présente. Un système d'alimentation en gaz inerte (33) et un système d'alimentation en air sec (35) sont sélectivement reliés à un premier barillet d'objectif (46) et à un second barillet d'objectif (48) d'un corps principal (11) de dispositif d'exposition et à une chambre de source lumineuse (16) d'un dispositif laser (12). Des capteurs d'oxygène (78, 42) conçus pour mesurer la concentration en oxygène et des dispositifs de contrôle (77, 41) de la quantité de gaz d'échappement conçus pour détecter la quantité de gaz d'échappement issu d'une conduite d'échappement (40) sont disposés respectivement à l'intérieur d'une chambre (45) du corps principal (11) du dispositif d'exposition et d'une chambre (15) du dispositif laser (12). Lorsque la concentration en oxygène détectée par les capteurs d'oxygène (78, 42) ou la quantité de gaz d'échappement détectée par les dispositifs de contrôle (77, 41) de la quantité de gaz d'échappement devient inférieure à une valeur spécifiée, on utilise de l'air sec à la place du gaz inerte comme gaz de purge destiné au premier et au second barillet d'objectif (45, 46) et à la chambre de la source lumineuse (16).